光催化氧化设备包括光激发氧化法(如O3/UV)和光催化氧化法(如TiO2/UV)。光激发氧化法主要以O3、H202、O2和空气作为氧化剂，在光辐射作用下产生羟基自由基 。

    光催化氧化设备则是在反应溶液中加入一定量的半导体催化剂，使其在紫外光(UV)的照射下产生HO• ，两者都是通过HO•的强氧化作用对有机污染物进行处理。其中，氧化效果较好的是紫外光催化氧化法，它的作用原理是让有机化合物中的C-C、C-N键吸收紫外光的能源而断裂，使有机物逐渐降解，之后以CO2的形式离开体系。

耀先光催化氧化设备

    光催化氧化设备的优点：

    1、反应条件温和、氧化能力强。

    2、在染料废水、表而活性剂、农药废水、含油废水、氰化物废水、制药废水、有机磷化合物、多环芳烃等废水处理中，都能有效地进行光催化反应，使其转化为无机小分子，达到完全无害化的目的。

   3、光催化反应对许多无机物，如CN-、Au(CN)2-、I-、SCN-、Cr2O72-、Hg(CH3)2、 Hg2+等的去除也有广阔的应用前景。

    4、可以破坏氰化物，以及电镀常用的各种有机螯合剂和添加剂，而达无害化。

    5、可以除去各种水中的微生物和霉菌。

    6、光催化氧化设备不仅可以破坏稀溶液(废水)中的有机物，而且可以破坏浓溶液(槽液)中的有机物。

    7、是一种非常清洁的干处理法，不会引入任何其他物质到体系中。

    8、能彻底破坏有机物而使其转化为CO2排出，处理的深度比其他方法高。

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